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        超純水設備在芯片行業的應用優勢

        2021-01-14

          近日,繼光刻機問世后,我國有關部門再次傳來利好消息,8英寸石墨烯晶片正式亮相。事實上,所謂的石墨烯晶圓是碳基材料。與硅基材料相比,碳基材料具有充分的優勢。碳晶體管的理論工作速度是硅晶體管的5-10倍。然而,在功耗方面,碳基晶圓比硅基材料少約十分之一。

          因此,石墨烯晶圓的正式亮相,意味著我國在更先進的碳基材料領域取得了領先地位,彌補了硅基材料的不足。中國未來率先變道超車不是夢想。國產芯片可謂“破冰”。一旦傳統的硅基芯片達到摩爾定律的極限,那么碳基芯片將成為半導體領域的一種新材料,芯片產業也將最終“改變”。由于芯片生產過程對水質要求較高,超純水的質量直接影響芯片的效果,因此國產芯片再度“破冰”,超純水設備是功不可沒的。

          超純水是為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水,是一種除了水分子外幾乎無其他雜質的水。傳統的超純水制取工藝通常是采用離子交換樹脂,但需要經常進行樹脂再生,既耗費物力又耗費人工,萊特萊德經過多年實踐,同時結合膜分離技術,采用反滲透加離子交換系統(或EDI)相結合的工藝來制取超純水,該工藝與傳統工藝相比具有運行成本低的優點(離子交換器的再生周期大大延長),運行可靠。萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2,高于中國國家電子級超純水標GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。

          超純水設備在芯片行業的運用優勢:

          1、無需酸堿再生:在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生,而EDI則消除了這些有害物質的處理和繁重的工作。保護了環境。

          2、連續、簡單的操作:在混床中由于每次再生和水質量的變化,使操作過程變得復雜,而EDI的產水過程是穩定的連續的,產水水質是恒定的,沒有復雜的操作程序,操作大大簡便化。

          3、降低了安裝的要求:超純水處理設備采用積木式結構,可依據場地的高度和靈活地構造。模塊化的設計,使EDI在生產工作時能方便維護。

          萊特萊德超純水設備能連續穩定地制備出高質量的超純水,不會因樹脂再生而停止運行。設備結構設計相對緊湊,占地面積小,可為企業節省大量空間。工業超純水設備出廠前需要進行調試,設備故障概率小,日常維護維修操作非常簡單。

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